3DIC堆叠技术.pdf
2026-01-27 05:37:53作者:段琳惟
随着个人电脑、智能手机、音乐播放器、游戏系统、数码相机及闪存媒体等消费电子产品需求的迅猛增长,电子系统市场经历了爆炸性的发展。这些便携式电子产品的核心在于如何通过单个集成电路的高效组装,满足小型化的需求。遵循摩尔定律,半导体技术的不断革新促进了电子系统能力的急速提升。本书深度探讨了一项新兴技术——3D IC堆叠技术,这项技术正逐步变革传统集成电路封装和装配领域,为下一代电子系统的开发开辟道路。
3D IC堆叠技术 不仅是技术上的跃进,更是在“超越摩尔定律”框架下的实践,通过硅穿孔(TSV)互连实现多层IC的垂直堆叠。这种方法极大提升了连接的紧密度、降低了阻抗、减少了功耗、扩展了带宽,并增强了设计的灵活性。无论是模块对模块、模块对晶圆还是晶圆对晶圆的连接,都展现出前所未有的设计自由度。然而,要充分利用3D IC的优势,就需要新的设计理念和对工艺技术创新的深入理解。
本书由多位业界专家撰写,包括来自高通、Synopsys、Applied Materials以及Amkor Technology的权威人士,覆盖从设计生态系统、设计自动化、TSV工艺选择、单元工艺技术到最终的组装与测试的全过程。通过详尽分析,书中揭示了3D IC堆叠技术的潜力与面临的挑战,为从业者和研究者提供了一套宝贵的参考资源。
不论是对于电子产品制造商、半导体工程师、科研学者,还是对工程技术感兴趣的读者,本书均是一扇窗口,引领您进入3D集成电路堆叠技术的前沿世界,探索这个复杂且充满可能性的未来趋势。
本资源意在帮助读者深入了解3D IC堆叠技术的最新进展,掌握其在现代电子系统设计中的关键作用,以及如何应对由此带来的挑战和机遇。希望对您的学习与研究有所助益。
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